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當前位置:首頁產(chǎn)品中心鋼研納克集團電感耦合等離子體質(zhì)譜儀PlasmaMS 300鋼研納克-電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

鋼研納克-電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

產(chǎn)品簡介

鋼研納克-電感耦合等離子體質(zhì)譜儀被具有檢出限低、動態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、分析速度快、可進行多元素同時測定等優(yōu)異的分析性能,已成為痕量和超痕量分析較為有效的分析手段之一。針對冶金、環(huán)保、地質(zhì)、礦產(chǎn)、食品等領(lǐng)域?qū)哿糠治黾夹g(shù)。

產(chǎn)品廠地:合肥市
更新時間:2024-05-22
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:1582

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品牌NCS/鋼研納克應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,食品,化工,地礦,冶金

鋼研納克-電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)被稱為自二十世紀以來激動人心的分析技術(shù),具有檢出限低、動態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、分析速度快、可進行多元素同時測定等優(yōu)異的分析性能,已成為痕量和超痕量分析為有效的分析手段之一。鋼研納克針對冶金、環(huán)保、地質(zhì)、礦產(chǎn)、食品等領(lǐng)域?qū)哿糠治黾夹g(shù)的需求,以滿足行業(yè)應(yīng)用需求為目標,攻克了ICP射頻電源、離子傳輸、四極質(zhì)量分析器等關(guān)鍵技術(shù),成功地研制了鋼研納克-電感耦合等離子體質(zhì)譜儀——PlasmaMS 300。    

解決了環(huán)境介質(zhì)中痕量重金屬元素檢測,地質(zhì)礦產(chǎn)中稀土、稀有、稀散元素分析,二次資源中有價有害元素的分析,金屬材料中的痕量化學成分及其分布分析,食品中有毒、有害元素不同形態(tài)、價態(tài)分析等技術(shù)難題。堅固耐用的射頻電源,集成了緊急保護措施的真空系統(tǒng)和自動化控制系統(tǒng),以及智能一鍵操作即可完成的儀器和分析流程設(shè)置,消除了人為干擾,保證了儀器工作的連貫性和重復性。

分析功能

匹配功能固態(tài)光源,有效的限制了離子化過程中離子的擴散,保證了離子的聚焦性和*的通過率。帶偏轉(zhuǎn)的離子光學系統(tǒng)保證了離子聚焦效果,有效的降低了背景噪聲,提高了信噪比。

聯(lián)用技術(shù)

可便捷地與激光燒蝕進樣系統(tǒng)(LA)及液相色譜(LC)聯(lián)用。結(jié)合LA的功能,可實現(xiàn)了PlasmaMS 300固體直接進樣,避免了復雜的樣本制備過程,提高了進樣及測試效率,擴展了PlasmaMS 300的檢測能力,可同時測定樣品氣溶膠中主、次、痕量元素的含量。與LC聯(lián)用,可進行有機物中元素的形態(tài)分析,進一步擴展了PlasmaMS 300的檢測能力和效率,提供了更全面的應(yīng)用解決方案。

人性化的操作流程

全中文的軟件界面,符合中國人的思維習慣,“一鍵式"參數(shù)設(shè)置直觀快捷,提高了用戶的工作效率。能夠根據(jù)客戶要求自定義報告格式,同時提供了QC功能及LIMS的接口。

便捷的維護

易于拆裝清洗的錐口系統(tǒng)、帶偏轉(zhuǎn)的離子透鏡系統(tǒng),減少了離子沉積,延長了儀器的維護周期。耐用的固態(tài)光源確保了儀器的長時間*使用。依托納克遍布全國的服務(wù)網(wǎng)絡(luò),實現(xiàn)了儀器完善的售后服務(wù)

環(huán)境分析測試領(lǐng)域

PlasmaMS 300針對地表水、廢水、土壤、沉積物、大氣(廢氣)中顆粒物、固體廢棄物等環(huán)境樣品中重金屬元素分析測試及檢測的需求,建立了整體應(yīng)用方案與分析方法。

地礦樣品測試

PlasmaMS 300靈敏度高、精度好、抗干擾能力強,是地質(zhì)樣品多元素分析的技術(shù)。滿足了礦物三稀元素的多元素快速、準確分析的需求,為“三稀"礦物資源調(diào)查和有效利用提供技術(shù)支撐。

食品安全問題

PlasmaMS 300不僅能夠有效的檢測食品和接觸性包裝材料中多種金屬元素的含量,與LC聯(lián)用,還可以有效的分離某些特定元素存在的不同價態(tài)和形態(tài),*可以滿足食品質(zhì)量安全領(lǐng)域中的重金屬殘留分析,重金屬形態(tài)分析,以及營養(yǎng)元素分析。

金屬材料研究

PlasmaMS 300與自主研制的激光燒蝕進樣系統(tǒng)(LA 300)聯(lián)用,能夠?qū)崿F(xiàn)小規(guī)格異形非平面材料中痕量元素的成分分布和復雜材料體系的痕量元素原位統(tǒng)計分布分析表征。


 

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